光谱仪协助半导体制程改进
- 制造业
- 吸光度
- 高灵敏度光谱仪
海洋光学与等离子体蚀刻技术的领先制造商合作，探索适合检测关键晶圆蚀刻终点的全光谱等离子体监测解决方案
挑战
随着全球对半导体的需求迅速增长，该行业已做好投资于节约成本的工艺改进，以及开发日益复杂的半导体设计和配方的准备。为满足当今的技术发展并应对不断扩大的市场，半导体代工厂需定量、准确和高速的过程测量。
半导体和微机电系统（MEMS）即将达到设计极限，通过减小尺寸或提高速度来进一步改进几乎不可能。相反，制造商专注于晶圆质量、可重复性和总产量以及提高生产能力。其目标是满足日益增长的智能电子产品需求，同时保持生产成本和价格竞争力。
见解
快速分析微弱等离子体或晶圆光谱有助于完善刻蚀工艺参数，同时可以提高晶圆质量。将基于光谱仪的等离子体测量与功能强大的软件结合，可说明等离子体、腔室和视口的变化状态，并对深度刻蚀或薄型设计特点的最微弱信号非常敏感。
光谱有助于更精确地检测终点，从而能够设计更复杂的晶圆形状和图案。由于制造商可以准确地停止和启动生产过程，因此可以制造更小的，同时减少错误和减少晶圆上的不可用空间。此外，随着终点检测变得越来越准确，可以使用更薄的不同材料层，即使说这些材料产生微弱、难以辨别的光谱特征和更紧密的峰值。
解决方案
海洋光学与一家领先的半导体行业设备供应商合作，以推动终点检测技术的发展。我们定制的光谱仪（Ocean SR2 和 Ocean HDX 是等离子体监测应用的良好选择），可提供半导体制造所需的快速、高灵敏度、精准分辨率和多功能连接能力。
借助海洋光学的硬件和支持，设备供应商不断改进和完善其为半导体行业提供的蚀刻技术。其领先的等离子体加工和先进的封装解决方案支持与无线设备、光子学、固态照明和 MEMS 设备相关的新兴技术。
